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快速退火炉
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发布日期:2022-12-05
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详细介绍

产品概述:

●快速退火炉是利用红外热辐射实现快速加热的一种半导体热处理工艺设备。通过灯光辐射型热源功率控制模块装置和专用灯组对位于工艺腔体的半导体硅片进行快速加热来实现稳定的升温过程。


产品特点:

●温度控制精度高、重复性好

●干净清洁的工艺腔体

●用户可根据要求定制工艺气体,最多可配置6路气体

●工艺过程计算机全自动控制

●样品尺寸:2-6英寸

●升降温速率:0-100℃/S可控


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