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坩埚下降炉
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发布日期:2022-12-03
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详细介绍

产品概述:

主要用于4-8英寸砷化镓、磷化铟等化合物单晶生长

设备由机架、安瓿支撑机构、加热器和控制系统组成

能够实现安瓿移动和转动的精确控制


产品特点:

工业计算机控制系统(WINDOWS系统界面,操作方便简洁)

关键部件均采用进口,确保设备的高可靠性

控温精度高,温区控温稳定性好

具有断电报警、超温、欠温报警、极限超温报警等多种安全保护功能

速度可调的梯形波、三角波及正弦波等旋转功能

单晶质量高


技术指标:

晶片类型:4/6英寸 工作温度范围:1100℃

加热器最高温度:1250℃ 控温精度:±0.5℃

控温段数:4段 炉腔压力:4MPa


应用范围:

广泛用于材料的坩埚下降的单晶生长


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